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出展予定・履歴

2011年10月4日から幕張メッセで開催されるCEATEC JAPAN 2011に出展致します。

出展予定
展示会名称 開催要領 展示予定開発品
CEATEC JAPAN 2011 開催日:2011年10月4日(火)〜8日(土)
場所:幕張メッセ
  • 耐指紋性添加液
  • 超高屈折率コーティング材料
  • 無電解メッキ核剤
出展履歴
展示会名称 開催要領 出展開発品
第21回
ファイテッンクジャパン
開催日:2011年4月13日(水)〜15日(金)
場所:東京ビッグサイト東6ホール
ブース:23-6
ナノPd金属複合コート材
(MCシリーズ)
新機能性材料展2011 開催日:2011年2月16日(水)〜18日(金)
場所:東京ビッグサイト東3ホール
ブース:L-32
  • 超高屈折率UV硬化塗料(UR)
  • 耐指絞性フッ素系添加液(FX)
  • MWCNT分散液(CT)
CEATEC JAPAN 2010 開催日:2010年10月5日(火)〜9日(土)
場所:幕張メッセ HALL5
ブース:5G05
  • フッ素系表面改質剤
    (FA-200)
  • 金属ナノ粒子複合材料
    RO-Pd,RW-Pd
    (参考出展)
  • エレクトロクロミック表示
    (参考出展)
新機能性材料展2010 開催日:2010年4月7日(水)〜9日(金)
場所:東京ビッグサイト東4ホール
ブース:N-004
  • 有機ナノ粒子3品種
    HPS-200、HA-DVB-500、HA-DMA-200
  • フッ素系表面改質材料
  • 金属ナノ複合剤
    (参考出展)
Nano & neo
新機能性材料展
Nanotech 2010
開催日:2010年2月17日(水)〜19日(金)
場所:東京ビッグサイト東4ホール
ブース:A-19
  • 有機ナノ粒子3品種
    HPS-200、HA-DVB-500、HA-DMA-200
  • フッ素系表面改質材料
  • CNTナノ複合剤
    (参考出展)
Nanotech 2009
ナノテク展
(新機能材料展2009と同時開催)
開催日:2009年2月18日(水)〜20日(金)
場所:東京ビッグサイト東4ホール
ブース:A-19
  • 有機ナノ粒子2品種
    HPS-200、HA-DVB-500
  • 有機抵抗メモリ・スイッチ
    (参考出展)
    インクジェット印刷で作製する有機メモリー素子
    (日産化学工業と九州大学と共同開発)

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